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Jul 08, 2025

Caso real: placa de resfriamento-micro{1}}de alta densidade para ferramenta de litografia EUV

Um de nossos clientes de semicondutores,-um OEM-sediado na UE e especializado em litografia EUV-nos abordou com um desafio: fabricar um produto de-alta densidadeplaca de resfriamento de microcanaisfeito de alumínio 6061-T6. O componente exigido ao longo1.200 micro-furos, cadaØ 0,18 mm, com umrelação profundidade-por{1}}diâmetro de 10:1, eprecisão posicional abaixo de ±5 μmem toda a superfície da peça.

Os principais desafios incluíram:

Quebra de ferramentadevido a proporções extremas

Manutençãoretidão do furoem profundidades de perfuração longas

Garantindoevacuação de cavacossem deformar os micro-furos

Prevenindodistorção térmicadurante a perfuração contínua

Para resolver isso, empregamos:

Ferramentas especializadas de micro-perfuraçãocom canais de refrigeração internos

Várias-etapasestratégias de perfuração peckcom controle de permanência e retração

Lavagem-assistida por ultrassompara garantir a liberação de cavacos

Em-processoestabilização térmicaentre passagens para controlar a expansão

Após múltiplas iterações e simulações, implementamos umProcesso de perfuração e alargamento em 2 passagensque alcançou geometria de furo consistente e superfícies internas-livres de rebarbas. Inspeção pós--de usinagem usando ummicroscópio digital 500×eCMM com digitalização por sondaconfirmado:

Todos os buracos dentro±3 μmfaixa de tolerância

Rugosidade da superfície abaixoRa 0,2 μm

Desvio de espaçamento-a{1}}de furo dentro±4 μmatravés de uma matriz de 150 mm × 150 mm

O componente passou nos testes de vazamento de hélio, nos testes de eficiência de transferência térmica e foi aceito na construção piloto do cliente sem retrabalho.

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